重大消息！工信部直接發文推廣國產光刻機，這證明商用很成功
時間：2024-09-15 10:47 來源：今日頭條 責任編輯：毛青青
原標題：重大消息！工信部直接發文推廣國產光刻機，這證明商用很成功
內容中提到“氟化氬光刻機（ArF DUV）”，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
所謂套刻精度，就是常說的“多重曝光能達到的最高精度”。
如果按套刻精度與量產工藝1：3的關系，那么這個光刻機大概可以量產28nm工藝的芯片。
這也就說明，國產28nm光刻機已經被攻克下來。
雖然跟國外先進制程水平還有差距，但至少能滿足90%以上的需求。
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